ASML hat eine bedeutende technische Weiterentwicklung seiner EUV-Lithographie-Maschinen vorgestellt. Der niederländische Halbleiterausrüster konnte die Leistung der Lichtquelle auf 1.000 Watt verdoppeln – ein Fortschritt, der Chipherstellern bis 2030 eine um 50 Prozent höhere Produktion ermöglichen könnte. Die Ankündigung erfolgt zu einem Zeitpunkt, an dem sich sowohl in den USA als auch in China neue Wettbewerber formieren.

Von 600 auf 1.000 Watt

Forscher in ASMLs kalifornischen Einrichtungen nahe San Diego haben die Leistung der EUV-Lichtquelle von bisher 600 auf 1.000 Watt gesteigert. Entscheidend dabei: Das System arbeitet unter realen Produktionsbedingungen, nicht nur im Labor. Michael Purvis, leitender Technologe für EUV-Lichtquellen bei ASML, betonte laut Reuters, dass die Anlage "1.000 Watt unter allen Anforderungen produzieren kann, die bei einem Kunden anzutreffen sind".

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Die höhere Leistung schlägt sich direkt in der Fertigungskapazität nieder. Teun van Gogh, verantwortlich für die NXE-Produktlinie bei ASML, erläuterte gegenüber Reuters, dass Kunden bis Ende des Jahrzehnts rund 330 Silizium-Wafer pro Stunde und Maschine verarbeiten können sollten – gegenüber aktuell 220.

Die technische Innovation

Der Durchbruch basiert auf zwei zentralen Neuerungen im Tin-Droplet-Plasma-Verfahren. Erstens verdoppelte ASML die Anzahl der Zinn-Tröpfchen, die pro Sekunde durch die Kammer gefeuert werden, auf etwa 100.000. Zweitens entwickelten die Ingenieure eine Methode, die Tröpfchen mithilfe zweier kleinerer Laserimpulse in Plasma umzuwandeln – anstelle des bisherigen einzelnen Impulses.

Jorge J. Rocca, Professor an der Colorado State University, kommentierte die Leistung mit den Worten: "Was erreicht wurde – ein Kilowatt – ist ziemlich beeindruckend." ASML selbst sieht weiteres Potenzial: Purvis erklärte, man erkenne "einen relativ klaren Weg zu 1.500 Watt und keinen grundlegenden Grund, warum wir nicht 2.000 Watt erreichen könnten".

Wettbewerb nimmt zu

Der Zeitpunkt der Ankündigung ist kein Zufall. Mindestens zwei US-Startups – Substrate und xLight – haben Hunderte Millionen Dollar eingesammelt, um Alternativen zu ASMLs EUV-Technologie zu entwickeln. xLight erhält zudem staatliche Förderung der Trump-Administration. China wiederum hat ein nationales Programm gestartet, um eigene EUV-fähige Maschinen zu bauen – eine Reaktion auf Exportkontrollen, die ASML-Lieferungen ins Land blockieren.

Mit dem Fortschritt bei der technisch anspruchsvollsten Komponente seiner Maschinen will ASML den Vorsprung gegenüber potenziellen Konkurrenten ausbauen.

Solide Geschäftszahlen

Das Unternehmen steht finanziell auf stabilem Fundament. Für das Gesamtjahr 2025 meldete ASML Nettoumsätze von 32,7 Milliarden Euro und einen Nettogewinn von 9,6 Milliarden Euro. Allein das vierte Quartal generierte Rekordumsätze von 9,7 Milliarden Euro bei einer Bruttomarge von 52,2 Prozent. Der Auftragsbestand lag Ende 2025 bei 38,8 Milliarden Euro. Für 2026 peilt das Management Umsätze zwischen 34 und 39 Milliarden Euro an.

Parallel läuft das im Januar angekündigte Aktienrückkaufprogramm über bis zu 12 Milliarden Euro. In der Woche vom 16. bis 20. Februar erwarb ASML 101.512 eigene Aktien für insgesamt 123,2 Millionen Euro.

Nächste Schritte

ASML veröffentlicht seine Geschäftsberichte für 2025 am 25. Februar. Die nächsten Quartalszahlen folgen am 15. April 2026. Der technologische Durchbruch bei der Lichtquelle festigt die zentrale Rolle des Konzerns in der globalen Halbleiter-Lieferkette – gerade zu einer Zeit, in der KI-getriebene Nachfrage die Kapazitätsausweitung in der Chipindustrie weiter befeuert.

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